解決這種問題大方向應是從精選原材料、科學調整配方及原料加工工序入手。對于釉面磚，可以排除配方始熔點過低造成的組分氧化受阻的可能性。但是由于釉面磚生產速度普遍較快(微粉拋光磚窯內線速度為2.0m/s，瓷片生產甚至達到了8.2~8.5m/s），導致組分中的有機物分解不完全而形成積炭，鐵質物（強酸弱堿鹽）在高溫還原氣氛下出現還原現象。所以在一定程度上可以采取以下措施來調整窯爐燒成工序來控制燒成雜質的生成：
（1）排煙風機、開槍數量、助燃風壓、霧化風壓甚至擋火墻、擋火板的調節(jié)對窯爐內的壓力、氣氛調整都有著明顯作用。但是以上的任何一方面調試都可能產生其它問題，所以調試時必須對窯爐燒成的狀態(tài)進行整體的綜合分析，這樣才能避免所說的雜質缺陷生成。
（2）窯爐的溫度曲線、各個溫度階段的窯內熱平衡調節(jié)(這往往需要借助窯爐壓力來進行分析)對燒成雜質的生成也起到至關重要的作用。
（3)除了以上方面之外，由于窯爐的燒成特性通常各有不同，主要體現在產量定位、燃料選擇、燒嘴選型甚至對坯體配方的適應性能(即配方的敏感性)等方面，所以反復調試后如果收效不大就應該轉變窯爐的控制思路。
